Jediná firma na světě uměla vyrábět DUV stroje na čipy. Čína ji právě dohnala a chystá mnohem více

Čínská firma Shanghai Aishengna zahájila výrobu svého imerzního DUV litografického stroje. Dosud tento klíčový segment ovládala prakticky jen nizozemská ASML.

Zdroj fotografie: Unsplash

V kategorii DUV litografických strojů obecně existují samozřejmě i další hráči, například japonský Nikon či Canon, kteří nabízí vlastní systémy. Jenže v segmentu takzvaných imerzních DUV skenerů, tedy těch nejpokročilejších nástrojů, které čínské továrny potřebovaly pro výrobu moderních čipů, měla de facto monopol jediná společnost: nizozemský ASML. Právě tento monopol teď poprvé narušila čínská firma Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Podle exkluzivní zprávy agentury Reuters z 28. července 2026 zahájila masovou výrobu domácího imerzního DUV stroje. Plán počítá s pěti kusy letos a přibližně dvaceti v roce 2027. A „mnohem více“ v tomto případě neznamená jen další DUV stroje; Čína současně vyvíjí vlastní EUV prototyp, tedy stroj příští generace, který už dokáže generovat extrémně ultrafialové světlo, ale zatím nevyrobil jediný funkční čip.

Co je imerzní DUV

DUV znamená hluboké ultrafialové záření. U pokročilé generace jde o argon-fluoridový laser s vlnovou délkou 193 nanometrů. Stroj přenáší vzor obvodů z předlohy na křemíkový wafer a právě tento krok fotolitografie rozhoduje o tom, jak jemné struktury lze na čipu vytvořit. Imerzní varianta přidává mezi optiku a wafer tenkou vrstvu ultračisté vody. Voda má vyšší index lomu než vzduch, takže světlo se více ohne a rozlišení vzroste. ASML tuto technologii představila v roce 2003 a od té doby ji postupně zdokonalovala až k dnešním modelům schopným zpracovat přes 300 waferů za hodinu.

Od průlomu ASML k čínskému oznámení výroby uběhlo 23 let. V aktuální zrychlené fázi ale šlo o mnohem kratší sprint: Aishengna byla založena teprve v srpnu 2023 se základním kapitálem 7 miliard jüanů, tedy zhruba 22 miliard korun. Tým Yuliangsheng testoval prototyp už v roce 2025 a o necelý rok později přišla zpráva o zahájení výroby.

Pět strojů proti sto třiceti

Čísla ukazují, jak obrovská je zatím propast. ASML v roce 2025 podle své investorské prezentace prodala 279 DUV systémů, z toho 47 procent imerzních, tedy orientačně 131 kusů. Čínský plán počítá s pěti stroji v roce 2026 a dvaceti v roce 2027. Prvními zákazníky mají být čínské továrny SMIC, Hua Hong a CXMT.

Reuters zároveň upozorňuje, že čínský stroj má daleko k tomu, aby se vyrovnal nizozemským modelům. Nezávislé benchmarky překryvu vrstev (overlay), výtěžnosti ani servisní spolehlivosti veřejně neexistují. Bezpečné je tedy říct, že Aishengna vyrobila stroj ve stejné kategorii, nikoli že dosahuje stejného výkonu.

Přesto jde o strategický zlom. Poprvé existuje čínská alternativa v segmentu, kde dosud žádná neexistovala.

Sankce zpomalily, ale nezastavily

Příběh čínského DUV stroje je neoddělitelně spojený se západními exportními omezeními. Nizozemsko od 7. září 2024 rozšířilo licenční režim právě na pokročilé DUV vybavení. USA drží vlastní restrikce na klíčové polovodičové technologie. V dubnu 2026 se v americkém Kongresu objevil návrh zákona, který by dále omezil prodej i servis imerzních DUV nástrojů do Číny.

Jenže právě tlak sankcí paradoxně urychlil čínskou snahu o soběstačnost. Reuters popisuje tři cesty, kterými se Čína k vlastnímu stroji dostala: sloučení domácích výzkumných týmů, nábor bývalých inženýrů ASML s bonusy v řádu milionů jüanů a získávání zkušeností prostřednictvím starších strojů a sekundárního trhu. Sankce se v tomto bodě neukazují jako neprostupná zeď, ale spíš jako drahé a časově omezené zdržení. Zafungovaly, ale ne navždy.

EUV: prototyp funguje, čipy zatím ne

EUV, tedy extrémně ultrafialová litografie, pracuje s vlnovou délkou pouhých 13,5 nanometru, tedy více než čtrnáctkrát kratší než DUV. Právě to umožňuje kreslit na čipy ještě jemnější struktury, ale za cenu extrémně složité fyziky: světlo se generuje z plazmy roztavených cínových kapek a celá optická dráha musí být ve vakuu.

Reuters už 17. prosince 2025 popsal čínský prototyp EUV. Stroj je natolik provozuschopný, že generuje EUV světlo, ale dosud nevyrobil funkční čipy. Vládní cíl pro první funkční čipy na tomto prototypu je rok 2028. Zdroje blízké projektu považují za realističtější horizont rok 2030. O sériové výrobě se zatím nemluví.

V březnu 2026 šéfové čínských polovodičových firem veřejně tlačili na koordinovaný národní plán pro roky 2026–2030, který má z dílčích průlomů vytvořit plně funkční litografické systémy. Nejde tedy o jeden hotový stroj, ale o program s ambicí vybudovat „čínský ASML“.

Co to znamená pro ceny elektroniky

Krátkodobě pravděpodobně nic. Pět strojů ročně je proti přibližně 131 imerzním systémům ASML příliš malý objem na jakýkoli globální cenový efekt. Ve střednědobém horizontu by větší čínská soběstačnost mohla ulevit nabídce běžnějších čipů, ale stejně tak mohou další omezení a servisní bariéry naopak výrobu elektroniky prodražit. Evropská unie si přitom své slabiny přiznává otevřeně: Chips Act i jeho připravované aktualizace upozorňují na závislost na třetích zemích v pokročilé výrobě.

Čína zatím nedohnala ASML v kvalitě ani v objemu. Poprvé ale ukázala, že dokáže postavit stroj, o kterém se ještě před několika lety tvrdilo, že ho bez západní pomoci nikdy nevyrobí. A právě tento posun, z „nemožného“ na „pomalejší a horší, ale existující“, mění celou dynamiku technologického soupeření o čipy.